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通过解析这一结构，统引突破研究人员发现硒氧化铋的带隙展现出不同寻常的稳健性和空间一致性——即便在分裂样品表面也没有出现表面态或者边缘态。与包括石墨烯在内的几种主要二维材料相比，据中具有二维层状结构的硒氧化铋不仅载流子迁移率、据中带隙等方面的特点突出，基于其制备的器件还能够在室温低电压条件下工作，在高速低功耗设备、红外光探测等方面均展现出优异的性能。心新在国际及双边重要学术会议上做邀请报告40余次。
近年发表论文90余篇，用伊被引次数超过12000次。ⅳ.进一步放大的图像显示了硒空位和硒原子(C)扫描隧道谱（STS）显示出邻近和远离阶梯边缘区域的带隙宽度均约为0.8eV(D)STS图谱展示了带隙宽度的统一性图3硒氧化铋的完整能带结构(A)ky-kz平面的费米面绘制(B)由导带形成的电子口袋的细节部分(C)能带色散图没有观测到边缘态或者表面态的存在(D)能带结构的详细三维图像解析图4硒氧化铋的表面图形及其对能带结构的影响(A)大面积原子级分辨STM拓扑图像显示了开裂样品表面的周期性结构(B)开裂表面图形的蒙特卡洛模拟和快速傅里叶变换（FFT）(C)表面铋、顿电硒原子的STS实验测量和计算结果【小结】这项工作通过实验观测发现新型超高迁移率层状硒氧化铋半导体材料的带隙具备优异的空间一致性，顿电即便材料存在表面缺陷（约50%的硒空位）的条件下，带隙依然表现出强大的稳健性能
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